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紫外光刻

利用紫外曝光的方法,將掩模版上的圖形轉移到光刻膠上。

曝光模式為接觸式曝光。光刻機型號為SUSS MA/BA6,可進行正面/背面套刻,最大支持6英寸片。支持正/負光刻膠。

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服務介紹:

利用紫外曝光的方法,將掩模版上的圖形轉移到光刻膠上。

曝光模式為接觸式曝光。光刻機型號為SUSS MA/BA6,可進行正面/背面套刻,最大支持6英寸片。支持正/負光刻膠。

服務內容:

1. 清洗基片(視情況而定)

2. HMDS預處理(視情況而定)

3. 旋涂光刻膠

4. 烘烤

5. 對準曝光

6. 顯影/定影

7. 烘烤

8. 光學檢測


服務說明:

客戶提供:基片及光刻版。套刻則還需提供套刻說明。

實驗周期:1-2個工作日。視難易程度而定。

收費標準:單步曝光 ××元/片次;正面套刻××元/片次;背面套刻××元/片次;特殊片另行協商。


成果展示:

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