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薄膜沉積-離子刻蝕鍍膜儀

離子刻蝕鍍膜儀 PECS Ⅱ

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GATAN第二代精密刻蝕鍍膜儀(PECS Ⅱ)是一款桌面型寬束氬離子拋光、鍍膜及膜厚測量設備。對于同一個樣品,可在同一真空環境下完成拋光及鍍膜。設備采用兩個寬束氬離子源對樣品表面進行拋光,去除損傷層,從而得到高質量樣品。用于SEM、光鏡或者掃描探針顯微鏡進行成像。



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公司名稱:華慧芯科技(天津)有限公司

平臺簡介: 

    清華大學天津電子信息研究院高端光電子芯片創新中心,占地約800平方米,其中百級黃光區100平方米。中心擁有完整的光電子器件研發設備,支持III-V族半導體、硅基半導體、二維材料、柔性材料、金屬材料等光電子芯片的研發,并具有多個納米尺度的特色工藝模塊和先進表征模塊;配套的測試實驗室提供國際領先的芯片測試分析技術。

    中心在支持天津電子院項目孵化的同時,面向社會開放,提供納米尺度下光電子芯片的制備工藝的解決方案,以提升我國光電子芯片的研發水平和產業化進程。

地址:天津

服務保障:已審核 已通過企業認證


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