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光刻設備-電子束曝光機


電子束曝光機JEOL JBX-6300FS

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JEOL JBX-6300FS是一款高斯束斑電子束光刻系統。該系統具有50MHz的掃描速度,最大寫場1000μm x 1000μm,寫場拼接精度±10nm,套刻精度±10nm,通過19位定位DAC和12位掃描DAC,可以得到0.125nm的掃描步距。設備具有自動校正功能,保證了曝光圖形的高精度尺寸統一性,通過自動聚焦及自動標記檢測功能,保證曝光結果高度重復性。該系統主要應用于集成電路直寫、高分辨模板的制作、新型器件原型的開發和微納米尺度的基礎研究。


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公司名稱:華慧芯科技(天津)有限公司


平臺簡介: 


    清華大學天津電子信息研究院高端光電子芯片創新中心,占地約800平方米,其中百級黃光區100平方米。中心擁有完整的光電子器件研發設備,支持III-V族半導體、硅基半導體、二維材料、柔性材料、金屬材料等光電子芯片的研發,并具有多個納米尺度的特色工藝模塊和先進表征模塊;配套的測試實驗室提供國際領先的芯片測試分析技術。


    中心在支持天津電子院項目孵化的同時,面向社會開放,提供納米尺度下光電子芯片的制備工藝的解決方案,以提升我國光電子芯片的研發水平和產業化進程。


地址:江蘇


服務保障:已審核 已通過企業認證


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